第九三九章 光刻机的现状

八五年，机电部（如今的工Y部）45所研制成功分步光刻机样机，中K院沪海光学精密机械研究所研制的“扫描式投影光刻机“通过鉴定，采用的都是436纳米G线光源，制程工艺达到1.5um，认为均达到GCA生产的4800DSW水平，为国内大规模集成电路专用设备填补了一项空白，这是国内第一台分步投影式光刻机，在这

    《我的一九八五》第九三九章 光刻机的现状 正在手打中，请稍等片刻，

    内容更新后，请重新刷新页面，即可获取最新更新！