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第九五六章 研发极紫外光
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前世虽然Nikon凭借技术实力和资金实力先后研制成功F2准分子激光器和浸没式光刻技术,生产成功浸没式光刻机,但半导体产业更新换代迅速,导致Nikon光刻机的可靠性能始终落后于ASML,从此,全球高端光刻机龙头Nikon逐渐败给了全球光刻机新霸主ASML。
前世由于ASML独有的EUV光源无人能
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