杨森平他们在国产光刻机上的研究，是从最初的毫米工艺向微米发展，在到如今的纳米级。
但却始终被海外的技术远远甩在后面。
现在华科院哪怕取得了重大技术突破，也仅是才达到28纳米水平。
距离海外的5纳米芯片相差甚远。
毕竟芯片的制造规格每提升一个小层次，研发难度都
《我的科技博物馆》第91章 不可能实现？【求推荐票月票】
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